Тонкопленочная технология

Тонкопленочная технология основана на напылении резистивных и проводниковых материалов в вакууме методом термического испарения и магнетронного распыления. Формирование конфигураций проводящего и резистивного слоев осуществляется масочным и фотолитографическим методом.

Наши возможности:


1. Напыление проводников Cu, Al с подслоем (Ta, Ti, V, Cr) c защитой
2. Проводников Ni, Cr, толщиной 1-3 мкм, 5-7 мкм, 6-10 мкм;
3. Напыление резистивных слоев РС-1714 (ρ=200-500 Ом/м²), РС-3710(ρ=50-2000 Ом/ м²),
4. РС-5406 (ρ=100-500 Ом/м²), РС-1004 (ρ=3-50 кОм/м²), К-20С (ρ=1-20 кОм м²), HiCr (ρ=5 20 Ом/м²), Ta(ρ=10-100 Ом/ м²);
5. Изготовление отражателей с напылением алюминия, коэффициент отражения в видимой области спектра 88%;
6. Напыление диэлектрических слоев SiO, GeO (1 до 3 мкм);
7. Процессы фотолитографии (разрешающая способность до 5 мкм);
8. Гальванопокрытия Sn, SnVi, Au, Cu, Ni;
9. Подгонка резисторов – лазерная, электроэрозионная, электроимпульсная, оксидированием Та;
10. Изготовление фотошаблонов эмульсионных и на основе окиси железа, изготовление масок;
11. Лазерная обработка ситалла, поликора и керамики (резка сложной геометрической конфигурации) и алмазная обработка поликора и керамики (резка, сверление и доводка);
12. Окисление кремния на сапфире;
13. Фотолитография на кремнии;
14. Формирование тензочувствительных элементов;
15. Вакуумная пайка КНС структур на титан.

Технологические возможности тонкопленочной технологии позволяют выпускать низкочастотыные (НЧ), высокочастотные (ВЧ) и сверхвысокочастотные (СВЧ) микроплаты, выполненные на разных типах керамики. Отработана технология изготовления НЧ микроплат с межслойной изоляцией диэлектриком.


Версия для печати
Отдел Маркетинга Е-mail: market@startatom.ru
Телефон. (8412) 23-28-58
Факс. (8412) 65-17-34
442960, Заречный, пр. Мира 1